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南大光電:缺陷檢測分析儀器主要應用于28nm以下工藝節點的光刻膠檢測,目前國內仍在研制中

每日經濟新聞 2022-11-25 15:37:15

每經AI快訊,有投資者在投資者互動平臺提問:請老師普及一下光刻膠缺陷檢測分析儀器的難度?這個比光刻機,刻蝕機還難嗎?

南大光電(300346.SZ)11月25日在投資者互動平臺表示,缺陷檢測分析儀器主要應用于28nm以下工藝節點的光刻膠檢測,目前國內仍在研制中,尚無可商用的設備。

(記者 蔡鼎)

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