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國林科技:公司目前研制的高濃度臭氧氣體發生器設備可用于薄膜沉積工藝的氧化成膜

每日經濟新聞 2023-05-26 10:31:54

每經AI快訊,有投資者在投資者互動平臺提問:可否介紹一下產品薄膜沉積設備應用?

國林科技(300786.SZ)5月26日在投資者互動平臺表示,公司目前研制的高濃度臭氧氣體發生器設備可用于薄膜沉積工藝的氧化成膜,傳統的薄膜沉積制成方法有三種:PVD、CVD、ALD,PVD屬于物理方法,CVD、ALD主要利用臭氧通過化學反應在硅片表面形成薄膜保護。

(記者 王可然)

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